Une nouvelle méthode de gravure au MIT : en route vers les 2,5 nm ?
Source : Le comptoir du hardware
Publié le : lundi 10 décembre 2018 à 11:12
Dans le temps, améliorer la finesse de gravure était chose facile, ce qui a bercé l'enfance de bon nombre de nos piliers de comptoir. Désormais, l'opération est bien plus complexe, nécessitant de passer dans d'autres gammes d'UV (par exemple pour le 7nm), et ce n'est sûrement pas Intel, embourbé dans un 10 nm boiteux, qui nous dira le contraire ! Le clap de fin pour le silicium tournera autour des 3nm (commerciaux rappelons-le), après quoi il faudra trouver d'autres solutions pour augmenter les performances...